英特尔前手艺长兼推行长基辛格（Pat Gelsinger） 现担任xLight的推行董事长，这是一家成就解放电子雷 （FEL）手艺算作极紫外线（EUV）曝光系统光源的新创公司。
在享受性能体验测试这顿大餐之前，先来看看外观质感，这是决定眼缘的“前调”。一加 Ace 5 Pro在外观设计工艺上也是放开了手脚，三种配色就用了三种工艺，星轨玻璃（星穹紫）、丝绸玻璃（潜航黑）、陶瓷特别版（白月瓷），我更喜欢的是「白月瓷」，之前一加 Ace 3 Pro的超跑白陶瓷我就很喜欢，这一次手感及质感上都得到了延续，如新瓷白玉的温润，但整体设计上又有性能极致的点睛之笔。而且这次采用同档唯一的二氧化锆“真陶瓷”材质，莫氏硬度达到 8.5，更耐划耐磨。
据“中东观察”等多家外媒12月26日消息，当地时间周三，叙利亚临时政府内务部在塔尔图斯省的一次行动中遇袭，至少14名新政权士兵被打死，还有10人受伤，发动袭击的是不是别人，正是阿萨德派的武装分子，迪士尼彩乐园开代理据悉在冲突中有3人死亡。
基辛格在LinkedIn中写说念：算作我在Playground Global（深度科技创投公司）的新职位的一部分，我已加 xLight并担任董事会推行主席。
EUV曝光机是一种用于半导体制造的先进手艺，使用波长为13.5nm的EUV光在硅芯片上创建极小的电路图案，高NA EUV的区别率为8nm，低NA EUV的区别率为13nm。目下，唯有ASML不错制造EUV微影系统，而这些系统接纳复杂的样子产生波长为13.5nm 的光。制造波长极短的光，从而分娩出区别率达到8nm~13.5nm的芯片的轮换不单一种。其中之一是使用粒子加快器算作雷射产生等离子体 （LPP） 光源。
凭据基辛格贴文写说念，xLight照旧创建了一个LPP开头，其功率是现在最先进系统的4倍。他宣称，xLight的手艺可将每片晶圆的成本缩小约50%，并将本钱和营驾驭度缩小3倍，这是制造效果的要紧飞跃。xLight宣称它不错在2028年之前分娩出这种光源，同期保握与现存器具的兼容性。
值得堤防的是，xLight的观念并不是取代ASML的EUV微影器具，而是分娩一种LPP开头，到2028年将连气儿到ASML扫描器并运转晶圆。这可能意味着xLight 的LPP开头将与现存的ASML器具兼容，但目下尚不明晰它是否与下一代 High-NA EUV器具兼容。
