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据路透社2月24日报说念，英特尔资深首席工程师Steve Carson在好意思国在加利福尼亚州圣何塞举行的一场会议上暗意，英特尔照旧装置的两台ASML High NA EUV光刻机正在其晶圆厂出产，早期数据标明它们的可靠性约莫是上一代光刻机的两倍。

Steve Carson指出，新的High NA EUV光刻机能以更少曝光次数完成与早期缔造计划的职责，从而纯粹时分和本钱。英特尔工场的早期成果暴露，High NA EUV 机器只需要一次曝光和“个位数”的责罚才气，即可完成早期机器需要三次曝光和约40个责罚才气的职责。当今英特尔照旧运用High NA EUV光刻机在一个季度内出产了3万片晶圆。

在当今时代，塑料污染犹如一场悄无声息却又来势汹汹的灾难，席卷着全球的每一个角落，给地球生态系统带来了沉重的打击，其危害程度之深、范围之广，令人触目惊心。

尊府暴露，迪士尼彩乐园信用怎样ASML的High NA EUV（EXE:5000）的分散率为 8nm，不错达成比现存EUV光刻机小1.7倍物理特征的微缩，从将单次曝光的晶体管密度提高2.9倍，不错使芯片制造商大约简化其制造进程。晶圆出产速率达到了每小时400至500片晶圆，是现时尺度EUV每小时200片晶圆的2-2.5倍的速率，即提高了100%至150%，将进一步提高产能，并镌汰本钱。

英特尔此前就曾暗意迪士尼彩乐园手机登录，High NA EUV光刻机将会最初会被用到其最新的Intel 18A制程的计算斥地，瞻望基于Intel 18A制程的PC芯片将于本年下半年量产。此外，英特尔还策动鄙人一代的Intel 14A制程中全面导入High NA EUV缔造来进行出产，但英特尔尚未公布该制程的量产时分。

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